PS之Camera raw分区曝光局部调整的讲解
作者:暂无发布时间:2019年10月15日 16:20

1.【打开】PS,【打开】素材,进入【Camera Raw】滤镜,调整【基本】参数,具体参数效果如图示。


2.点击【渐变滤镜】,拉出滤镜,调整【参数】,具体参数效果如图示。


3.点击【径向滤镜】,拉出滤镜,调整【参数】,具体参数效果如图示。


4.【径向滤镜】面板,调整【颜色】,将【滤镜】调整大小,具体如图示。


5.【打开】素材,点击【调整画笔】,调整【参数】,涂抹脸部,具体如图示。


6.【调整画笔】面板,调整【清晰度】与【锐化程度】参数,具体参数效果如图示。


7.【打开】素材,点击【调整画笔】,使用【自动蒙版】涂抹与勾选【蒙版】涂抹的区别,左侧为自动蒙版,右侧为勾选【蒙版】,具体如图示。


8.【打开】PS,进入【Camera Raw】滤镜,点击【污点去除】,涂抹污点部分,具体如图示。


9.点击【渐变滤镜】,拉出滤镜,调整【参数】,具体参数效果如图示。


10.点击【调整画笔】,调整【参数】,进行涂抹,具体参数效果如图示。


11.【调整画笔】面板,调整【参数】,具体参数效果如图示。


12.点击【径向滤镜】,拉出滤镜,调整【参数】,具体参数效果如图示。


13.点击【新建】,拉出滤镜,调整【参数】,具体参数效果如图示。


14.【径向滤镜】面板,调整【清晰度】参数,具体参数效果如图示。


15.最终效果具体如图所示。



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